怎樣系統(tǒng)地處理鍍鎳液中的雜質?
發(fā)布日期：2021-04-29
在鍍鎳槽中，對雜質進行處理是保證鍍層質量的重要手段。在電鍍過程中，光亮劑的分解以及雜質的帶人幾乎是不可避免的，除要盡可能地保持溶液純凈，必須對鍍液進行定期的、系統(tǒng)的處理，不要等到故障出現(xiàn)，以致影響生產(chǎn)才進行雜質的去除處理。
一般正確的處理方法是：
(1)用硫酸(10％)調整鍍液pH值為3，加溫至60。C(有利于氧化反應的進行)；
(2)加入高錳酸鉀至溶液呈紫色為止，攪拌60min，再用雙氧水退去紫絳色(氧化鐵2價至3價)；
(3)加入2～6g／L的碳酸鉛(或用堿式碳酸鉛和醋酸鉛)去鉻；
(4)用5％氫氧化鈉(或氫氧化鉀)調pH值為6.2(使金屬雜質生成不溶物質沉淀)；
(5)加活性炭(化學純)1～3g／L，并攪拌1～2h(吸附有機雜質)；
(6)靜置24h過濾；
(7)用瓦楞形陰極以0.25A／dm2的電流處理至獲得正常鍍層(除銅、鋅雜質)；
(8)用10％硫酸調pH值直至正常范圍，按工藝添加光亮劑。
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