在鍍鉻過程中，我們會(huì)碰到很多問題，一些常見缺陷，會(huì)導(dǎo)致電鍍的質(zhì)量下降，我們需要找到具體的原因，才能采取有效的措施，今天我們不妨來看看關(guān)于鍍鉻常見缺陷及其原因。

(l) 鍍層粗糙有顆粒

1. 電流太大

2. 陰極保護(hù)不當(dāng)或末裝

3. 陰陽極太近

4. 表面前處理不好

5. 鍍液有浮懸雜質(zhì)

6. 硫酸太少

(2)鍍層脫落

1. 前處理不良

2. 中途斷電

3. 中途加冷水（液溫控制

4. 預(yù)熱不夠（要同夜溫一樣）

◆5。陰極電流密度控制

(3) 局部無鍍層

1. 電流太小

2. 鍍件互相遮蓋

3. 裝掛不當(dāng)，氣體停滯

(4) 鍍層不均勻

1. 掛具接觸不良

2. 氣體不易逸出

3. 陽極型狀不當(dāng)

(5) 沉積速度慢

1. 電流太小

2. 三價(jià)鉻太小

3. 二極間距太大

4. 鍍件過大

5. 槽內(nèi)鍍件過多

(6) 鍍層暗色

1. 溫度太低

2. 硫酸此例太少

3. 三價(jià)鉻太多

(7) 鍍層針孔

1. 前處理不佳

2. 氣體停滯鍍件表面上

3. 鍍件被磁化

4. 浮懸雜質(zhì)

5. 表面活性劑

6. 鍍液有磁性粒子

◆鍍鉻的氫脆性

鍍鉻的電流效率非常低，所以產(chǎn)生大量的氫氣，會(huì)引起氫脆,尤其是硬化鋼、高強(qiáng)度鋼更

需注意。

去除氫脆方法有:

(l) 鍍前先做應(yīng)力消除(stress relieving) : 鍍鉻表面必須沒有應(yīng)力存在，一般鍍件經(jīng)機(jī)械加工、研磨，或硬化熱處理都有殘留應(yīng)力( residual stress)，可加熱150至230℃消除殘留應(yīng)力。

(2) 鍍后烘箱去氫: 根據(jù)工件大小和鍍層厚度確定溫度和時(shí)間，通常選擇的溫度為150~250℃，時(shí)間0.5~5h。

鉻是一種微帶天藍(lán)色的銀白色金屬。電極電位雖然很負(fù)，但它有很強(qiáng)的鈍化性能，在大氣中很快鈍化，顯示出具有貴金屬的性質(zhì)，所以鋼鐵零件鍍鉻層是陰極鍍層。鉻層在大氣中很穩(wěn)定，能長期保持其光澤，在堿、硝酸、硫化物、碳酸鹽以及有機(jī)酸等腐蝕介質(zhì)中非常穩(wěn)定，但可溶于鹽酸等氫鹵酸和熱的濃硫酸中。

鉻層硬度高（HV800～110kg/mm2），耐磨性好，反光能力強(qiáng)，有較好的耐熱性。在500℃以下光澤和硬度均無明顯變化；溫度大于500℃開始氧化變色；大于700℃時(shí)才開始變軟。

由于鍍鉻層的優(yōu)良性能，廣泛用作防護(hù)—裝飾性鍍層體系的外表層和機(jī)能鍍層。

傳統(tǒng)的鍍鉻工藝，其電鍍液以鉻酸為基礎(chǔ)，以硫酸作催化劑，兩者的比例為100：1。工藝的優(yōu)點(diǎn)為：鍍液穩(wěn)定，易于操作；無論鍍光亮鉻還是鍍硬鉻，鍍層質(zhì)量都比較高，具有光亮、耐磨、穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)，所以一直得到廣泛的應(yīng)用。其缺點(diǎn)為：（1）陰極電流效率非常低，一般只有8%～16%，這樣，鍍速相當(dāng)慢，消耗的能量也相當(dāng)大；（2）鉻酸濃度高，含鉻廢水和廢氣污染大，材料浪費(fèi)嚴(yán)重；（3）鍍液溫度較高，能量浪費(fèi)大；（4）鍍液的分散和覆蓋能力差，形狀復(fù)雜的零件必須采用象形陽極、防護(hù)陰極和輔助陽極才能得到厚度均勻的鍍層。因此，國內(nèi)外電鍍界一直致力于改革高鉻傳統(tǒng)鍍鉻工藝，為降低鉻酸濃度，減少其危害，提高鍍鉻效率進(jìn)行著廣泛的研究和探索?，F(xiàn)已獲得一定的成果。

改善傳統(tǒng)鍍鉻工藝一般都采用在鉻酸鍍液中加添加劑的辦法。這些添加劑可分為四類：（1）無機(jī)陰離子添加劑（如、F－、、、、、、等）；（2）有機(jī)陰離子添加劑（如羧酸、磺酸等）；（3）稀土陽離子添加劑（如La3+、、Ce3+、Nd3+、Pr3+、Sm3+等）；（4）非稀土陽離子添加劑（如Sr2+、Mg2+等）。

在改善傳統(tǒng)鍍鉻工藝的過程中出現(xiàn)了三種較為突出的工藝：（1）以氟化物為催化劑的鍍鉻工藝；（2）以氯、溴、碘及穩(wěn)定的羧酸作催化劑的鍍鉻工藝；（3）以稀土作添加劑的鍍鉻工藝。

     以上便是鍍鉻常見缺陷及其原因，通過對(duì)其詳細(xì)的了解，我們可以更加提高電鍍質(zhì)量，從而提高工藝的效率。

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